2012年環(huán)境影響評(píng)價(jià)師《案例分析》重點(diǎn)知識(shí)(60)

更新時(shí)間：2012-03-02 14:08:09 來(lái)源：|0

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　　六、污染物排放總量控制分析$lesson$

　　擬建工程污染物排放產(chǎn)生量、治理削減量和最終排放量核算見(jiàn)表4。

　　由表4可見(jiàn)，擬建工程投產(chǎn)后，最終排入環(huán)境的廢氣主要污染物氟化物為3.42ga;

　　本工程排入環(huán)境的廢水為131.98萬(wàn)m3/a，CODcr排放量為188.16Ua，NH3--N排放量為5.77t/a;本工程固體廢物最終排放總量為0。

　　本項(xiàng)目位于北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，目前開(kāi)發(fā)區(qū)內(nèi)無(wú)污染物排放控制的下達(dá)指標(biāo)，因此本項(xiàng)目也無(wú)明確的污染物排放的控制指標(biāo)。2002年底開(kāi)發(fā)區(qū)污水排放量為1.69萬(wàn)m3/d，CODc，的質(zhì)量濃度為300～400mg/L，按預(yù)測(cè)本項(xiàng)目最終CODc，的排放量188.16Ua，約占2002年全開(kāi)發(fā)區(qū)CODe，的8.84%：NH3一N排放量為5.77Ua。

　　建議在滿足達(dá)標(biāo)排放的前提下，以上污染物排放量作為本項(xiàng)目污染物總量控制指標(biāo)建議值，報(bào)請(qǐng)環(huán)保主管部門審批，并提出實(shí)施總量控制指標(biāo)的具體措施和計(jì)劃。

　　七、清潔生產(chǎn)及節(jié)水分析

　　目前我國(guó)集成電路生產(chǎn)已具備了--定的規(guī)模和基礎(chǔ)，初步形成了從產(chǎn)品設(shè)計(jì)、前工序到后封裝的體系輪廓。目前國(guó)內(nèi)主要有7個(gè);芯片制造骨干企業(yè)，國(guó)內(nèi)芯片生產(chǎn)企業(yè)總的講規(guī)模都不算太大，且產(chǎn)品工藝與國(guó)際先進(jìn)水平有一定的距離。本項(xiàng)目擬建設(shè)8英寸(20.32cm)0.35-0.18ltm，預(yù)計(jì)量產(chǎn)時(shí)月投片30000片：12英寸(30.48cm)先進(jìn)制程線，0.13-0.09gm，月投產(chǎn)3000片。因此，無(wú)論是產(chǎn)品工藝還是生產(chǎn)規(guī)模都將成為國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的芯片生產(chǎn)企業(yè)。

　　在擬建項(xiàng)目生產(chǎn)技術(shù)路線和生產(chǎn)工藝是在國(guó)際上較為先進(jìn)的，技術(shù)水平上符合集-成電路加工制作清潔生產(chǎn)的要求。本項(xiàng)目努力提高資源和能源的綜合利用能力，水資源綜合利用取得一定的效果，部分廢水回用，廢物減量化，"三廢"治理措施合理可行。因此，基本上符合清潔生產(chǎn)的要求，但水資源綜合利用仍有潛力可挖。

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